eVos LE Series
直接控制基板電壓和離子能量的非對稱偏置波形發生器
Advanced Energy的eVoS平台是一項革命性的電源技術，用於直接控制等離子體處理中離子能量的分佈。 集成的單外殼系統為節點蝕刻和沈積應用提供了定制的寬度和離子能量的精確控制。 eVoS LE具有1.2 kV的非對稱波形，可應用計量和專有控制來提供偏置等離子體性能，以實現傳統射頻方法無法實現的敏感特徵形成和效率。
- 獨立調節的電壓和電流輸出，可最大程度地控制偏置條件
- 專有控制系統，可直接控制晶圓偏置特性
- 快速的數字化計量，用於實時輸出監視和控制
- 通過直接將功率應用於離子加速來提高效率，從而減少加熱浪費
- 增強自定義離子能量分佈，消除尾巴和窄分佈的能力，以最大程度地提高濃度至過程最佳水平
規格：
離子能 :
離子電流 :
10 to 400 mA
脈衝範圍 :
1 to 5000 Hz @ 10% -90% duty factor
