eVos LE Series
直接控制基板电压和离子能量的非对称偏置波形发生器
Advanced Energy的eVoS平台是一项革命性的电源技术，用于直接控制等离子体处理中离子能量的分布。集成的单外壳系统为节点蚀刻和沈积应用提供了定制的宽度和离子能量的精确控制。 eVoS LE具有1.2 kV的非对称波形，可应用计量和专有控制来提供偏置等离子体性能，以实现传统射频方法无法实现的敏感特征形成和效率。
- 独立调节的电压和电流输出，可最大程度地控制偏置条件
- 专有控制系统，可直接控制晶圆偏置特性
- 快速的数字化计量，用于实时输出监视和控制
- 通过直接将功率应用于离子加速来提高效率，从而减少加热浪费
- 增强自定义离子能量分布，消除尾巴和窄分布的能力，以最大程度地提高浓度至过程最佳水平
规格：
离子能 :
离子电流 :
10 to 400 mA
脉冲范围 :
1 to 5000 Hz @ 10% -90% duty factor
